微軟注資 Lace 挑戰 ASML
總部位於挪威的 Lace 公司獲得微軟旗下創投領投的 4,000 萬美元 A 輪融資,開發非光學曝光的氦原子數工具。
EUV 的隨機效應與散粒雜訊
極紫外光(EUV)因波長短、單一光子能量高,導致光子數量減少並產生分布不均的「散粒雜訊」,限制了圖案的精準度。
介穩態氦原子的能量釋放
利用高能量的介穩態氦原子撞擊光阻,回歸基態時釋放約 20 電子伏特的能量觸發化學反應,波長僅 0.1 奈米且能量適中。
解析度可達細原子等級
實驗證實透過 15 奈米孔徑的模板光罩,可產生半間距低於 1 奈米的圖案,且理論上限可縮小至 10 倍以上。
模板式光罩與 AI 反向設計
採用 10-20 納米厚的氮化矽薄膜製作「模板式光罩」,並結合 AI 技術反向推算複雜的幾何圖案。
2029 年進入試點測試
Lace 目前已擁有原型機,計畫於 2029 年在晶圓廠進行四點測試,試圖克服高產能與量產材料的挑戰。
觀眾怎麼看
整理 28 則有效留言信心 高觀眾對新創技術挑戰ASML持高度懷疑,主要質疑其量產能力與商業可行性。
多數觀眾認為該技術產能遠不及ASML,僅能視為實驗室玩具,難以應用於高良率的商業化量產。
觀眾質疑為何由軟體公司微軟投資,而非台積電或半導體設備大廠,認為缺乏產業鏈支持。
指出氦氣資源稀缺且成本高昂,且現有光學微影技術仍有改善空間,未必需要完全更換製程。
部分觀眾樂見有新創公司挑戰ASML的壟斷地位,認為市場不應由單一廠商獨霸。
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